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El trío demostró transistores con canales de MoS2, WS2 y WSe2 a paso de poly contactado de 50 nm con litografía EUV, un puente concreto entre el laboratorio y la fab para reemplazar el silicio.
La start-up china dice haber validado producción masiva de wafers ópticos de 8 pulgadas con nanoimprint en lugar de litografía DUV, junto a Shenzhen Litra Technology según SCMP.
La demanda insaciable de chips para inteligencia artificial obliga a ASML a elevar sus planes de contratación y construir una nueva planta masiva en Nueva Taipéi.
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